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          納米壓印光刻機(jī)

          簡(jiǎn)要描述:

          納米壓印光刻機(jī),本機(jī)統(tǒng)針對(duì)各大專院校、企業(yè)及科研單位,對(duì)光刻機(jī)使用特性研發(fā)的一種高精度光刻系統(tǒng)。

          更新時(shí)間:2025-01-15

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          納米壓印光刻機(jī)本機(jī)統(tǒng)針對(duì)各大專院校、企業(yè)及科研單位,對(duì)光刻機(jī)使用特性研發(fā)的一種高精度光刻系統(tǒng)。

             公司產(chǎn)品涵蓋金屬材料檢測(cè)與非金屬材料檢測(cè),品種達(dá)一百多個(gè)。土木工程類高校用到的:大型多功能結(jié)構(gòu)試驗(yàn)系統(tǒng)、巖土工程試驗(yàn)系統(tǒng)、自平衡反力架、力學(xué)模型試驗(yàn)系統(tǒng)、電液伺服疲勞系統(tǒng)、高溫高壓應(yīng)力腐蝕試驗(yàn)系統(tǒng)、千斤頂檢定裝置等。另有全系列產(chǎn)品:電子wanneng試驗(yàn)機(jī)系列;液壓wanneng試驗(yàn)機(jī)系列;壓力試驗(yàn)機(jī)系列;扭轉(zhuǎn)試驗(yàn)機(jī);彈簧試驗(yàn)機(jī);沖擊試驗(yàn)機(jī)、摩擦磨損試驗(yàn)機(jī)、鋼絞線錨固松弛試驗(yàn)機(jī);電纜繩索臥式拉力機(jī)系列;動(dòng)靜疲勞試驗(yàn)機(jī)系列、橡膠支座壓剪試驗(yàn)機(jī)系列;大噸位力學(xué)加載壓力機(jī);飛機(jī)起落架檢測(cè)系列;絕緣子檢測(cè)系列;特殊定制大型試驗(yàn)系統(tǒng)。國(guó)家電網(wǎng):風(fēng)電葉片疲勞加載綜合測(cè)試系統(tǒng)、風(fēng)電機(jī)組葉片疲勞加載綜合測(cè)試系統(tǒng)、風(fēng)電葉片雙軸疲勞加載系統(tǒng)、風(fēng)電葉片面向旋轉(zhuǎn)疲勞加載系統(tǒng)、風(fēng)電葉片兩點(diǎn)疲勞加載系統(tǒng)等。

          一、納米壓印光刻機(jī)技術(shù)參數(shù)

          1.曝光時(shí)間調(diào)解器:0.1至999.9秒(可調(diào)節(jié)精度0.1s)
          2.365-400nm光強(qiáng)傳感及電源供應(yīng)控制電路及反饋閉環(huán);
          3.聲控功率警報(bào)裝置可防止系統(tǒng)功率超過(guò)設(shè)定指標(biāo);
          4.有安全保護(hù)裝置的溫度及其氣流傳感器;
          5.全景準(zhǔn)直透鏡光線偏差半角:<1.84度;
          6.波長(zhǎng)濾片檢查及安裝裝置
          7.抗衍射反射功能高效反光鏡;
          8.二向色的防熱透鏡裝置;
          9.防汞燈泄漏裝置;
          10.配備蠅眼棱鏡裝置
          11.配備近紫外(或深紫外)光源

          12.主要配置:6“,8"光源系統(tǒng)
          13.手動(dòng)系統(tǒng),半自動(dòng)系統(tǒng)
          14.支持電源350-2000 
          15.支持深紫外近紫外波長(zhǎng)(可選項(xiàng))
          16.支持背后對(duì)準(zhǔn)及MEMS工藝要求
          17.CCD或顯微鏡對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)
          18.主要性能指標(biāo):光強(qiáng)均勻性Beam Uniformity:--<±1% over 2" 區(qū)域--<±2% over 4"區(qū)域--<±3% over 6"區(qū)域
          19.接觸式樣曝光特征尺寸CD(近紫外NUV):0.5 um

          二、主要用途

          ⒈ 本機(jī)針對(duì)各大專院校、企業(yè)及科研單位,對(duì)光刻機(jī)使用特性研發(fā)的一種高精度光刻機(jī)。

          ⒉ 由于本機(jī)找平機(jī)構(gòu)先進(jìn),找平力小、使本機(jī)不僅適合單晶硅片、玻璃片、陶瓷片、銅片、不銹鋼片、寶石片的曝光,而且也適合易碎片如砷化鉀、磷化銦等基片、的曝光以及非圓形基片和小型基片的曝光。

          3.工作方式 本機(jī)為單面對(duì)準(zhǔn)、單面曝光。

          三、主要構(gòu)成主要由高精度對(duì)準(zhǔn)工作臺(tái)、雙目分離視場(chǎng)顯微鏡顯示系統(tǒng)、曝光頭、氣動(dòng)系統(tǒng)、真空管路系統(tǒng)、直聯(lián)式無(wú)油真空泵、防震工作臺(tái)和附件等組成。

          四、主要功能特點(diǎn)

          1.適用范圍廣適用于Φ100mm以下,厚度5mm以下的各種基片(包括非圓形基片)的對(duì)準(zhǔn)曝光。

          2.結(jié)構(gòu)先進(jìn)具有半球式找平機(jī)構(gòu)和可實(shí)現(xiàn)真空硬接觸、軟接觸、微力接觸的真空密著機(jī)構(gòu)。

          3.操作簡(jiǎn)便采用翻板方式取片、放片;按鈕、按鍵方式操作,可實(shí)現(xiàn)真空吸版、吸片、吸浮球、吸掃描鎖等功能,操作、調(diào)試、維護(hù)、修理都非常簡(jiǎn)便。

          4.可靠性高采用進(jìn)口電磁閥、按鈕、定時(shí)器;采用dute的氣動(dòng)系統(tǒng)、真空管路系統(tǒng)和精密的機(jī)械零件,使本機(jī)具有非常高的可靠性。

          5.特設(shè)“碎片"處理功能解決非圓形基片、碎片和底面不平的基片造成的版片分離不開所引起的版片無(wú)法對(duì)準(zhǔn)的問(wèn)題。


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